出光、新規アダマンタン誘導体3グレードを開発

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出光興産は、半導体製造用のフォトレジスト原料として新たにArF液浸露光用原料(線幅45nm世代以降向け)としてアダマンタン誘導体3グレードを18日から市場投入した。

今回の新規グレードは、ArF(アルゴンフッ素)液浸リソグラフィー用の新しいコンセプトのフォトレジスト原料に用いるために、従来のアダマンタン誘導体「アダマンテート」を需要家のニーズに合わせて開発したもので、2010年度からの本格的量産に先駆けて生産供給体制を整えた。

既に一部需要家で評価、良好な結果を得たことから、需要拡大が見込めると判断し、市場投入を決定した。

初年度の売上げは3億円を見込んでいる。今後はさらに32nm世代以降の微細加工に用いるフォトレジストに最適なアダマンタン系原料を開発し、順次市場に投入していく予定。

また、次世代のリソグラフィー技術として注目をあびているEUV向けのフォトレジスト基材についても開発を進めており、今年度中に本格的なユーザー評価を開始する予定。
《レスポンス編集部》

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