旭硝子と世界の先端半導体メーカー協同組合であるセマテックは25日、「EUVマスクブランクス」の商業化を加速するために、共同開発パートナーシップを締結したと発表した。
次世代半導体製造プロセスであるEUVリソグラフィーは、ハーフピッチ22nm世代及びそれ以下の世代の製品製造が可能だが、実現のためには数多くの技術課題がある。特に欠陥のないマスクブランクスを大量生産することは、量産段階までに解決させるべき重要な課題となっている。
現在、米国ニューヨーク州立大学アルバニー校ナノスケール科学工学部ナノテク棟にあるセマテックEUVマスクブランクス開発センターでは、旭硝子からもエンジニアのチームを派遣している。EUVリソグラフィーにとって重要な課題である生産性を向上させるため、露光時に問題となるサイズの欠陥レベルを1平方cm当たり0.003個へ低減する研究を進めており、旭硝子とセマテックでは、欠陥のないマスクブランクスと、その生産技術を共同開発する。
