NECエレクトロニクスは3日、2鶴岡市のNECセミコンダクターズ山形の敷地内に、次世代の半導体開発拠点となる「NECエレクトロニクス山形開発センター」を新設、開所式を開催した。
同センターでは、40人程度の開発者が、次世代半導体の量産技術、DRAM混載技術を含む高機能・低電力・高信頼を指向する独自の技術開発を行う。また、NECセミコンダクターズ山形の300mm量産ラインを活用し、開発から量産までの期間短縮を図り、ユーザーが望む製品をいち早く提供する体制を整える。
同社は45nm世代の半導体製品として、45nmよりさらに微細化を進めた40nm製品の技術開発、試作を神奈川県相模原市で行ってきたが、同開発・試作拠点をNECセミコンダクターズ山形に新設した山形開発センターに移転した。40nm技術を用いた試作品はユーザーに提供しており、今年10月から量産開始する計画。
